2016年03月02日 会合
主催:日本化学会コロイドおよび界面化学部会
【東京】
会期:5月12日(木)~13日(金)(東京会場)
会場:日本化学会館(東京都千代田区 神田駿河台 1-5)
http://colloid.csj.jp/event/basic/tokyo-2016.pdf
【大阪】
会期:6月16日(木)~17日(金) (大阪会場)
会場:大阪工業大学 うめきたナレッジセンター(グランフロント大阪 北館ナレッジキャピタル タワーC 9 階)
http://colloid.csj.jp/event/basic/osaka-2016.pdf
※「北館1 階タワーC 専用エレベータB( 右側のエレベータ)」をご利用いただきますようお願い申し上げます。
界面・コロイド化学は、洗剤・化粧品・塗料など日常生活に密着した製品から、医療材料・医薬品、最先端の電子部品用材料まで、さまざまな工業製品開発において重要な役割を果たしています。本講演会は、特に若手社員や新たにこの分野の知識を必要とされる方々に、界面・コロイド化学を基礎から学んでいただくための集中講義です。この2日間でコロイド・界面化学の基礎を一通り習得できます!本講座は今年で32 回目にもなる実績のある講座です。東京・大阪とご都合のよい日程と会場でご参加ください。充実した講師との交流会・質問タイムも毎年好評です。
【講座の特長】
◇短期集中!
界面・コロイドの幅広い基礎を、2日間で効率的に学べます。
◇豪華な講師陣!
豊富な研究実績や教育経験をもつ充実した講師陣が講義します。
◇充実の質問時間!
ふんだんに設けられた講師への質問時間と交流会がより深い理解へといざないます。
●プログラム等詳細
東京 http://colloid.csj.jp/event/basic/tokyo-2016.pdf
大阪 http://colloid.csj.jp/event/basic/osaka-2016.pdf
参加費・お申込み:部会員30,000 円、日化・協賛学会員35,000 円、非会員40,000 円、学生10,000 円
※ご勤務先が法人部会員の場合は部会員、日本化学会法人会員の場合は日本化学会会員、協賛学会法人会員の場合は協賛学会員扱いとなります。
※参加者の方には丸善『第3 版現代界面コロイド化学の基礎- 原理・応用・測定ソリューション』を配布します。
◇ 参加ご希望の方は、部会HP http://colloid.csj.jp/ の専用申込みWeb サイトからお申込み下さい。
お問合せ:(公社)日本化学会 コロイドおよび界面化学部会
〒101-8307 東京都千代田区神田駿河台1-5
Phone: (03)3292-6163 FAX: (03)3292-6318
Email: dcsc(at)chemistry.or.jp
迷惑メール対策のため、メールアドレスの(at)を@に置き換えてください。 (Please use at sign instead of (at).)
URL: http://colloid.csj.jp/