2015年06月11日 賞・助成
主催:公益財団法人 新世代研究所
研究領域:<ナノサイエンス>
ナノ領域の微細な材料やデバイス、加工プロセスを学術的・融合的に研究する萌芽的、
独創的研究を期待します。バイオ・ナノサイエンスも対象とします。
応募資格:
日本国内の大学・公的研究機関の研究者(院生、学生を除く)であり、満35歳(2015
年9月30日現在)以下の方。 ※国籍は問いません。
助成対象期間:2015年10月1日から2016年9月30日まで
助成金額:総額1,000万円(採択件数:10件程度/1件100万円以内)
選考基準:
(1)研究領域が”ナノサイエンス”と一致しているか。
(2)将来の新領域を切り拓く萌芽的研究であるか。
(3)従来の延長ではない、個人の独創による提案であるか。
(4)研究の方法と実行計画は妥当であるか。
(5)当該研究の遂行にふさわしい研究能力を有しているか。
(6)助成金の使途は妥当であるか。
募集期間:
事前登録:2015年6月19日(金)10:00 〜7月17日(金)12:00(厳守)
申請書提出:2015年7月17日(金)12:00まで(必着)
応募方法:
本ページ最下部URLより募集要項をご確認のうえ、ご応募ください。
※公益財団法人新世代研究所では、セイコーインスツル(株)の全面出資により、科学技術研究の推進事業を行っております。
連絡先:
公益財団法人 新世代研究所 ATI研究助成担当
TEL:03-3255-5922
Email:ati-grant(at)sii.co.jp
迷惑メール対策のため、メールアドレスの(at)を@に置き換えてください。 (Please use at sign instead of (at).)
URL:http://www.ati.or.jp/2015josei.html